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研究了电沉积法制取镍箔的实验条件,并对不同条件下得到的镍箔表面、断面SEM形貌以及抗拉强度进行了分析. 结果表明,动态条件下电沉积镍箔,能够显著提高其极限电流密度,此时SEM形貌显示沿电沉积箔的厚度增长方向,纯镍箔的晶粒逐渐增大. 加入5 g/L糖精能够有效地细化晶粒,并使镍箔表面更加光亮,其抗拉强度也有所提高.
Most Pb-free solders are Sn-based alloys with addition of low melting metals (such as Zn) or metals forming eutecticts or peritectics with Sn (such as Cu). Copper and nickel are common substrate mater...
Purpose: The microstructure characterization of commercially available zirconia powders was the purpose of this paper. Different methods of structure analysis were applied owing to the complex, multi...
文章摘要: 在扫描电镜(SEM)中对Zr57Cu15.4Ni12.6Al10Nb5块状晶非单边缺口试样进行了原位拉伸; 用原子力显微镜(AFM)研究了剪切带的三维形成. 研究表明, 拉伸进缺口前方产生剪切带, 它们逐步发展, 长大. 尽管剪切带由剪应力产生, 正应力在其形成和扩展过程中起重要作用. 两剪切带相交时会形成割阶, 其长度随相交剪切带中应变量升高而增大. 当主剪切带中...

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