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氧化石墨烯(GO)是一类重要的石墨烯材料,具有多种不同于石墨烯的独特性质,是目前应用最为广泛的二维材料,在热管理、复合材料等领域已实现工业化应用,在物质分离、生物医药等领域也表现出良好的应用前景。目前,GO的批量制备主要采用化学氧化方法(如Hummers法),即通过石墨与浓硫酸、浓硝酸、高锰酸钾等强氧化剂的反应来实现GO制备。该反应迄今已有150多年的历史,由于大量强氧化剂的使用,在制备过程中存在...
中国科学院化学研究所专利:石墨烯及其制备方法
中国科学院化学研究所专利:氧化石墨作为引发剂引发烯类单体的自由基聚合的方法
中国科学院上海应用物理研究所专利:高密度超细孔结构石墨制备方法
中国科学院上海应用物理研究所专利:一种氟化石墨的制备方法及制备装置
本发明涉及一种石墨中氢或其同位素解吸反应釜,包括:提供一腔体的炉体,由外壁和内壁组成,气冷夹层形成在外壁和内壁之间;提供一样品室的隔热壁,固定设置于腔体内,包括由至少两层内层钼隔热层和至少四层不锈钢隔热层形成;承样台,由金属钼加工而成并固定设置于样品室内;围绕着承样台设置的钼加热丝;抽真空管路,一端与腔体连通,另一端与机械泵和/或油扩散泵连通;惰性气体管路,包括惰性气体入口和惰性气体出口,惰性气体...
专利名称:一种石墨烯的制备方法 英文名称:一种石墨烯的制备方法 专利类别:发明 申请号:200910236552.1 申请日期:2009-10-26 授权日期:2013-5-8 专利号:ZL200910236552.1 第一发明人:梁明会 其它发明人:智林杰 专利授权日期:2013-5-8
中国科学院国家纳米科学中心专利:一种还原氧化石墨烯的制备方法
中国科学院国家纳米科学中心专利:一种石墨烯纳米带及其制备方法和在透明电极中的应用
为研究石墨烯吸附TiCl4分子的影响因素及其光电性能,探索复合物应用于传感器及透明导电薄膜的可能性,采用第一性原理与蒙特卡罗方法研究TiCl4气体分子在石墨烯表面的吸附条件控制与光电性能。结果表明:(1)石墨烯对TiCl4气体分子具有较强的物理吸附作用,Cl原子吸附在其附近相距质心位置最远的碳原子顶位最稳定;(2)温度升高不利于TiCl4气体分子吸附,气体逸度增加有利于吸附,TiCl4气体分子插入...
最近,北京大学化学与分子工程学院沈兴海教授团队系统研究了典型锕系离子(Th4+、UO22+、Pu4+、Am3+、Cm3+)、镧系离子(La3+、Eu3+、Tm3+)以及锶(Sr2+)、铯(Cs+)离子与石墨炔的配位和吸附作用,重点考察了f电子对配位的影响。实验测定和理论计算发现:水溶液状态下,石墨炔对Th4+、Pu4+、Am3+、Cm3+和Cs+具有显著的吸附作用,而对UO22+、La3+、Eu3...
以膨胀石墨为载体材料,采用改进后的综合法制备的羟基氧化铁(FeOOH)为改性材料,在酸性及超声波振荡的条件下对膨胀石墨进行表面接枝,制得羟基氧化铁/膨胀石墨复合材料,并对材料进行扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)表征,随后测试了其除砷性能,并探讨了反应机理.实验结果表明,复合材料中羟基氧化铁通过氢键与化学键均匀负载在了膨胀石墨...

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